SX-80 Plasma Spraying System and Plasma Spheroidization Powder Production Equipment

SX-80 Plasma Spraying System and Plasma Spheroidization Powder Production Equipment

SX-80 等离子喷洒系统

SX-80是一种基于进口METCO级设备开发的高能等离子喷洒系统,整体水平相当于METCO-9M。标准系统包括主逆变电源、PLC集成控制柜、水电传输箱、粉末供料器、等离子枪和带管道的热交换器。

技术参数

  • 额定功率80千瓦,实用范围80-120千瓦。
  • 工作电流100-800安培,电弧电压30-100伏。
  • 工作气体:氩气、氮气,或氩气/氮气加氢气。
  • 主要组件来自施耐德、欧姆龙和中国,确保24小时稳定运行。
  • 支持内膛喷射,使用延长枪。

等离子球化粉末生产

同一等离子体平台用于球化:不规则粉末颗粒被送入等离子射流,熔化成液滴,并在表面张力下重新凝固为高密度、高球形粉末,并控制氧气接收。典型产品包括球形氧化铝、锆以及其他用于热喷涂、增材制造和电子应用的陶瓷粉末。

完整生产线

除了SX-80系统本身外,我们还供应周边生产线:供料和投药设备、带隔音的喷雾室、集尘、冷却与分类单元、机器人操作和工艺培训,均作为交钥匙安装交付。

系统配置

子系统规格
电源80-120千瓦,100-800安培,30-100伏,带PLC控制的晶闸管整流器
喷枪SG-100,最高功率100千瓦,内外粉末喷射
火药供料机体积式双料斗,每条线20-120克/分钟
气体控制Ar/N2为初级,H2为次级,质量流量控制
冷却闭环冷却机,具流量和温度联锁功能
控制具备配方存储、故障诊断和参数日志功能的PLC

两项职责,一个站台

同样的80-120千瓦电源驱动涂层和粉末球化。在涂层模式下,枪将氧化铝、铬、锆或碳化陶瓷混合物喷洒到已准备好的零件上。在球化模式下,粉末通过羽流自由飞行,熔化并凝固为致密的球形颗粒——这些原料用于增材制造、MIM和热喷雾粉末。

安装要求

  • 三相380伏电源,150千伏安容量,稳定在5%以内。
  • 水供应量为20-30升/分钟,温度低于25°C,或配备匹配冷却机。
  • 喷雾舱配备8,000-12,000立方米/小时的抽取和集尘设备。
  • 地基可承载1.5吨,水平不超过2毫米/米。

常见问题解答

系统能喷洒碳化物吗?

它可以喷涂碳化物-陶瓷混合物,但纯WC-CO更适合由HVOF喷涂:等离子体温度能脱碳化钨,降低涂层硬度。对于WC-Co,我们建议改用高压高压系统。

涂层的最大厚度是多少?

对于带有粘结涂层和受控冷却的氧化陶瓷,最大可达2毫米。实际生产厚度通常为0.3-1.5毫米。

操作员培训包括在内吗?

是的。每套系统都包含安装、调试以及为期五天的操作员和维护培训课程,远程支持随后继续。

延伸阅读:高压喷涂与等离子喷洒。